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聚焦 | LCD光刻胶国产化率仅10%,国产龙头晶瑞股份加速进口替代

来源: 时间:2020-06-17 13:30:45 次数:

光刻胶按应用领域分类,大致分为LCD光刻胶、PCB光刻胶(感光油墨)与半导体光刻胶等。按照下游应用来看,目前LCD光刻胶占比26.6%,刻胶占比24.5%,半导体光刻胶占比24.1%,PCB光其他类光刻胶占比24.8%。

光刻胶按应用领域分类,大致分为LCD光刻胶、PCB光刻胶(感光油墨)与半导体光刻胶等。按照下游应用来看,目前LCD光刻胶占比26.6%,刻胶占比24.5%,半导体光刻胶占比24.1%,PCB光其他类光刻胶占比24.8%。

虽然国产替代进度快的PCB光刻胶国产化率已达到50%,但技术门槛更高的 LCD 光刻胶国产化率在10%左右,进口替代空间巨大。

光刻胶呈现寡头垄断的局面

光刻胶行业具有高的行业壁垒,因此在全球范围其行业都呈现寡头垄断的局面。

从全球市场份额来看,主要由日本、美国、韩国企业所把控。目前前五大厂商占据了全球光刻胶市场87%的份额,行业集中度高。其中,日本JSR、东京应化、日本信越与富士电子材料市占率合计达到72%。

光刻技术随着IC集成度的提升而不断发展。为了满足集成电路对密度和集成度水平的更高要求,半导体用光刻胶通过不断缩短曝光波长以提高限分辨率,世界芯片工艺水平目前已跨入微纳米级别,光刻胶的波长由紫外宽谱逐步至g线(436nm)、i线(365nm)、KrF(248nm)、 ArF(193nm)、F2(157nm),以及的EUV(<13.5nm)线水平。KrF和ArF光刻胶被日本、美国企业垄断。日本在这一领域的控制力增强了日本整体的半导体实力。

目前我国半导体领域的g线、i线光刻胶基本可以满足自给。而更为KrF、ArF光刻胶,我国则几乎全部依赖进口,国产化率存在提升空间。

目前,芯片制造商使用的量产的光刻胶为曝光波长193nm的ArF光刻胶。仅有海外企业能够达到ArF及以上的技术水平。

在ArF光刻胶方面,JSR、信越化学、东京应化、住友化学、富士胶片、陶氏化学分别占据24%、23%、20%、15%、8%、4%的市场份额。

在KrF光刻胶方面,东京应化、信越化学、JSR、陶氏化学、韩国东进、富士胶片分别占据35%、22%、18%、11%、6%、5%的市场份额。

在EUV光刻胶方面,具备布局的前十大企业中,日本公司占有七席,并且富士胶片、信越化学、住友化学排名前三位,其申请数量大幅其他公司,体现日本在EUV光刻胶领域具备十分明显的技术优势。

LCD光刻胶需求快速增长

全球面板市场稳步上升,产能向大陆转移,催生 LCD 光刻胶需求增长。

据 IHS 2019年 6 月发布的数据,2019 年全球 TFT-LCD 和 OLED 整体平板显示容量约为 3.34 亿平方米,2023 年有望上升至 3.75 亿平方米,其中,TFT-LCD 面板市场容量约为 3.09 亿平方米,未来需求将稳步增长。

全球 LCD 面板产业经历了“美国研发—日本发展—韩国超越—台湾崛起—大陆发力”的过程,美国早研发出 LCD 技术后,80 年代后期由日本厂商将 LCD 技术产业化,全球面板产业几乎被日本企业垄断。

90 年代后,韩国和中国台湾面板厂快速崛起,开始长时间主导市场,大陆面板自 2009 年开始发力,以京东方为首的大陆面板厂商产能持续翻倍增长。据 IHS 数据,2018 年大陆 LCD 产能占有率已达到 39%,预计 2023 年大陆产能将占全球总产能的 55%。

政策及国产化风向带动国产厂商发展

半导体材料和半导体设备作为半导体产业链的上游,对于产业的支撑意义明显,具有同等重要的战略意义。2020年至2022年是中国大陆晶圆厂投产高峰期,以长江存储,长鑫存储等新兴晶圆厂和以中芯国际,华虹为代表的老牌晶圆厂正处于产能扩张期,未来3年将迎来密集投产。根据国内晶圆厂的建设速度和规划,预计2022年国内半导体光刻胶市场是2019年的两倍,半导体光刻胶市场将迎来高速发展期。

目前国内在 LCD光刻胶领域有布局的国产厂商主要有飞凯材料、永太科技、苏州瑞红(晶瑞股份 100%控股)和北京科华微电子(南大光电持股 31.39%)。

飞凯材料已经在的湿膜光刻胶领域通过下游厂商验证,CF光刻胶已经通过华星光电验证。

晶瑞股份(苏州瑞红)承担了重大科技项目02专项“i线光刻胶产品开发及产业化”项目并通过验收,在国内实现了i线(365nm)光刻胶量产,并在中芯国际、扬杰科技、士兰微等半导体厂通过了单项测试和分片测试,取得了客户的产品认证。

同时,子公司苏州瑞红研发的 RZJ-325 系列光刻胶、高粘附性光刻胶RFJ-210G、TFT-Array 光刻胶部分产品、厚膜光刻胶 RZJ-T3520 等光刻胶产品也取得重大进展将逐步推向市场。

南大光电2019年半年报中披露公司正在自主创新和产业化的193nm光刻胶项目,已获得02专项“193nm光刻胶及配套材料关键技术研究项目”和“ArF光刻胶开发和产业化项目”的正式立项,先后共获得中央财政补贴15,101.65万元,地方配套5,000万元。

为促进我国光刻胶产业的发展,02重大专项给予了大力支持。今年5月,02重大专项实施管理办公室组织任务验收专家组、财务验收专家组通过了“紫外光刻胶材料与实验室检测技术研究”项目的任务验收和财务验收。

据悉,经过项目组全体成员的努力攻关,完成了EUV光刻胶关键材料的设计、制备和合成工艺研究、配方组成和光刻胶制备、实验室光刻胶性能的初步评价装备的研发,达到了任务书中规定的材料和装备的考核指标。项目共申请发明15项(包括国际5项),截止到目前,共获得授权10项(包括国际授权3项);培养了博士研究生9名,硕士研究生1名。

根据测算,伴随LCD产业中心的转移,叠加材料国产化的大趋势,我国LCD光刻胶市场规模及国产化率有望逐步提升,预计2019-2023年,我国LCD光刻胶市场规模将会从40亿元提升到69亿元,4年 CARG14.6%;LCD光刻胶材料的国产化率有望从5%快速提升至40%,国产材料龙头有望充分受益。在LCD光刻胶领域,随着国内技术的不断突破,在产业驱动和政策支持下,预计龙头企业将优先抢占国产化的市场空间,有望享受全球产业转移下丰厚的业绩回报。

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